- 半導體使用臭氧水清洗處理方法
半導體使用臭氧水清洗處理方法 ①減少化學藥品的使用 a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相對較貴，并且需在60-100 ℃的高溫條件下發(fā)生作用 . . .
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